Pt Film
불투명한 Pt금속으로 되어 있기 때문에 가시광선의 투과율이 약 23%로 현저히 떨어졌음.
Hole Pattern
(15s Etch)
Hole Pattern을 통해 빛이 투과되므로 투과율이 높아짐.
전기는 통하지 않았지만
가시광선 영역에서 투과율이
높았으며, 균일한 Pt Film이
형성될 경우 전기가 통할 것
으로 예상.
for staggered TFT, because of the high resistance of a-Si:H.
Due to the resistance, the TFT where source & drain overlap with gate shows good electrical characteristics.
1. 증착 순서: 비정질 실리콘 위에 질화막을 연속으로 증착한 후 질화막을 패턴닝한다. 패턴닝된 질화막의 위에 n+층을 증착하고 그 위에 소오스-드레인 전극을 형성한다.
1. Dry Etch; PR 등의 보호막으로 가려져 있지 않은 부위의 막질 제거
2. Ashing; PR 제거
3. Plasma Nitridation; 얇은 산화막 등 유전막의 특성 개선을 위한 표면 처리
4. Plasma Oxidation; Transistor의 특성 개선을 위한 표면 처리
5. 유전막 PE-CVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition); SiON 등의
유전막 증착
6. Barrier Meta
● 유기 발광 전계효과 트랜지스터(organic light-emitting transistor; OLET)
- OLET는 일반적으로 OTFT의 횡적인 전도 채널 구조를 채용하고, OLED와 동일한 전자와 정공의 재결합에 의한 발광 메커니즘을 기반으로 함으로써, 유기 전자 재료 및 소자의 기초적 연구와 기술적 적용 개발에서 모두 유용하다. 아래의 그
1. LCD(Liquid Crystal Display)의 정의
인가전압에 따른 액정의 투과도의 변화를 이용하여 각종 장치에서 발생되는 여러 가지 전기적인 정보를 시각정보로 변화시켜 전달하는 전자 소자이다. CRT와는 달리 자기발광성이 없어 후광이 필요하지만 동작 전압이 낮아 소비 전력이 적고, 휴대용으로 쓰일 수 있어
etching과 dry etching로 구분한다. wet etching는 금속 등과 반응하여 부식시키는 산 계열의 화학약품을 이용하여 PR pattern이 없는 부분을 녹여 내는 것을 말하고 dry etching는 ion을 가속시켜 노출부위의 물질을 떼어냄으로써 pattern을 형성하는 것을 말한다.
최근에는 주로 dry etching을 사용하는데, 이는 에칭 후
17.액정유리
-제조: 캡슐 상태의 액정분자들을 필름에 부착시켜 이것을 일반 판유리에 합체시키고 전선코드를 설치.
-특징: 전압 연결 시 투명 혹은 불투명한 유리상태로 또는 각종 영상을 상영할 수 있는 대형스크린 시스템으로 변화 가능함. 액정유리는 전기가 차단되면 액정분자들이 제멋대로 배열
의한 웨이퍼 표면의 에칭과 과산화수소에 의한 웨이퍼 표면의 산화 반응이 동시에 일어나 표면의 particle을 효과적으로 제거한다. 하지만, SC1 세정 용액은 낮은 Redox potential에 의해 표면의 금속 오염을 피할 수 없다. SC1용액에서 발생한 금속 오염물을 제거하기 위해 SC2 세정 공정이 등장하게 되었다.
Ⅰ. 실험목적
➺ 공업용 순 구리의 미세구조와 기계적 성질에 회복, 재결정, 결정립성장이 미치는 영향을 안다.
Ⅱ. 실험내용 및 실험 관련 이론
Ⅱ-1. 재료 열처리
Ⅱ-1-1. 회복 (recovery)
➺ 가공된 재료의 성질이 가열에 의해 원 상태로 돌아오는 현상을 가리킨다. 금속과 같이 결정으
에칭 기술과 디지털 튜너, 소형모터 부문은 확고한 시장 지위와 경쟁력을 자랑한다. 아울러 소자소재 분야인 LED와 PCB에 대한 경쟁력 강화와 함께 차량 부품 시장에 진출하는 등 미래시장 동력을 확보해가고 있다.
2.1.1.1 오즈(OZ) 간판 조명용 LED(light emitting diode, 발광다이오드)채널모듈
2009년 4월 LG